ASML（荷兰阿斯麦）正抓住研发其下一代高NA（0.55数值孔径）的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL泄漏，其存量EUV客户均订货了新一代设备。

  具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NA EUV光刻机了。

  高NA EUV光刻机答应加工更精细的半导体芯片，出产功率也更高，它也是2nm及更先进工艺的必要条件。

  韩国设备商泄漏，现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元（约合10~16亿元人民币），而高NA EUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元（约合26亿元）。

  据了解，在第三季度财报中，ASML完结58亿欧元的净销售额，毛利率51.8%、净利润17亿欧元，公司估计四季度净销售额在61~66亿欧元之间。

  CEO Peter Wennink，其三季度预定产品的销售额到达创纪录的89亿欧元，其间EUV设备就有38亿欧元。